1. EBB：EBB是指电子束曝光机（Electron Beam Exposure System）。该系统是用于制造半导体芯片和其他微电子器件的关键工艺设备之一。EBB利用电子束进行精确的光刻，将设计好的电路图案投射到光刻胶上，从而形成微电子器件的结构。它具有高分辨率、高精度和可调性的优点，常用于制造高密度、高性能芯片。
2. ESC：ESC是指电子稳定控制（Electron Stability Control）。ESC是一种在电力系统中使用的技术，旨在稳定电力供应并保护关键设备免受电力波动或干扰的影响。ESC系统通过监测电力系统的电压、电流和频率等参数，实时调整电力系统的运行状态，以确保稳定的供电。它通常包括变压器、电容器、电感器、逆变器和控制器等组件，用于控制和稳定电力系统的运行。
总而言之，EBB是用于制造半导体芯片的电子束曝光机，而ESC是用于稳定电力供应和保护电力系统的电子稳定控制技术。