5nm光刻技术不真实：有多家机构和个人指出，所谓的5nm光刻技术并不存在，这是一个假新闻或者误解。实际上，中科院研究的是针对光掩膜的生产技术，而不是用于制造芯片的光刻机所需的极紫外（EUV）光源技术。此外，全球唯一能够生产高端光刻机的公司是荷兰的阿斯麦（ASML），该公司已停止向中国出售14nm以下的先进光刻机。

新型光源的产生原理是真的：尽管有关于5nm光刻技术的报道是错误的，但是关于新光源产生的原理本身是真实的。它涉及到一种被称为超连续谱光源的技术，这种光源能够在较长的波长范围内提供均匀的高功率辐射。这项技术被认为是实现更先进光刻技术的关键组成部分之一。

中科院的研究成果：中科院确实在光掩膜技术方面取得了进展，这是通过改进材料和技术来实现的。这些进步有助于降低对外部供应的依赖性，但与制造5nm或更先进制程的芯片所需的光刻技术不同。

综上所述，虽然有关5nm光刻技术的报道是不准确的，但中科院在光掩膜技术方面的研究是有实际意义的，并且在一定程度上减少了对外国技术的依赖。